等离子表面处理——等离子体脉冲CVD
PICVD(等离子体脉冲化学气相沉积)已经发展很多年了。主要用于光学涂层。该工艺利用了脉冲微波等离子体，允许在脉冲间隔期间更新处理气体。典型的脉冲重复率是100s-1。
PICVD工艺的主要优点是：
①具有高分辨率的连续的折射率分布并能利用掺杂剂气流的变化进行良好的控制;
②由于大的质量流和高的处理气体利用率而具有高达几μm·min-1的沉积率;
③由于非常纯的反应气体而能获得高纯度沉积物;
④该方法制备的涂层具有极好的光学性能稳定性;
⑤基体的低热负载允许象塑料眼科镜片这样的对温度敏感的材料使用涂层。
